[发明专利]短波成像用溶剂和光刻胶组合物无效
| 申请号： | 02808944.8 | 申请日： | 2002-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1505773A | 公开（公告）日： | 2004-06-16 |
| 发明（设计）人： | C·R·萨蒙达;A·赞皮尼 | 申请（专利权）人： | 希普雷公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了适于短波，尤其亚170nm如157nm成像的新型光刻胶。本发明的光刻胶包括含氟聚合物、光敏组分和溶剂组分。优选用于本发明的光刻胶的溶剂能够将光刻胶组分保持在溶液中，包括一种或多种，优选两种或多种溶剂(即共混物)。在本发明的特别优选的溶剂共混物中，各共混成分以基本相等的速率蒸发，从而光刻胶组合物保持基本恒定浓度的各共混成分。 | ||
| 搜索关键词： | 短波 成像 溶剂 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1、光刻胶组合物，包括氟化树脂，光敏组分，和溶剂组分，该溶剂组分包括至少两种不同溶剂的混合物，其中该不同溶剂之一不合有酮结构部分，以及排除由甲基乙基酮和氯苯组成的溶剂组分。
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