[发明专利]方位计有效
| 申请号： | 02809035.7 | 申请日： | 2002-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN1531642A | 公开（公告）日： | 2004-09-22 |
| 发明（设计）人： | 阿部泰典;下江治 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | G01C17/30 | 分类号： | G01C17/30 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为提供薄且面积小的方位计。本发明排列了一个平面线圈和至少两组薄膜磁阻元件。这几组薄膜磁阻元件中的每一组构成MR桥，探测和输出地磁场的两个垂直分量，根据输出值得到方位信息。 | ||
| 搜索关键词： | 方位 | ||
【主权项】：
1.方位计，包含：平面线圈，绕成相对于两个互相垂直的轴对称的形状；至少两组薄膜磁阻元件，其所处平面基本与平面线圈所在平面平行，其中所述几组磁阻元件中的每一组构成偶数个磁阻元件电相连的MR桥路并探测和输出地磁场的两个垂直分量，根据输出值得到方位信息，其中该方位计进一步包含：沿预定方向向平面线圈通入电流以向其施加等于或大于所述磁阻元件饱和磁化的磁场、沿相反方向施加恒定偏置磁场、沿与所述预定方向相反的方向施加等于或大于磁阻元件饱和磁化的磁场，然后沿相反方向施加偏置磁场的装置；以及在施加所述偏置磁场的同时向这几组薄膜磁阻元件通入磁场测量电流的装置。
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