[发明专利]量子干涉型磁通计的制造方法无效

专利信息
申请号: 02809452.2 申请日: 2002-02-15
公开(公告)号: CN1507664A 公开(公告)日: 2004-06-23
发明(设计)人: 河内正治;吉泽正人;佐藤薰由 申请(专利权)人: 科学技术振兴事业团
主分类号: H01L39/22 分类号: H01L39/22;H01L39/24
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种量子干涉型磁通计的制造方法,其特征在于,具有以下工序:通过在第1圆筒形陶瓷基材的外表面使高温超导微粒移动电沉积和烧结,形成与该输入线圈一体型的拾起线圈的工序;在第2圆筒形陶瓷基材的外表面全面使高温超导微粒移动电沉积和烧结,形成高温超导磁屏蔽管的工序;以及布置成拾起线圈部的前端部插入磁屏蔽管的下端部内,而且将高温超导量子干涉型元件从磁屏蔽管上端部插入,而使高温超导量子干涉型元件与上述输入线圈磁耦合的工序。
搜索关键词: 量子 干涉 型磁通计 制造 方法
【主权项】:
1.一种量子干涉型磁通计的制造方法,其特征在于,具有以下工序:在第1圆筒形陶瓷基材的外表面形成导电性图形的工序;使高温超导微粒和/或高温超导体前驱物质微粒,移动电沉积在上述导电性图形上的工序;及对上述第1圆筒形陶瓷基材进行热处理,使上述微粒烧结,形成输入线圈、及与该输入线圈一体型的拾起线圈的工序。
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