[发明专利]可拆除基片或可拆除结构及其生产方法有效
申请号: | 02809681.9 | 申请日: | 2002-04-11 |
公开(公告)号: | CN1528009A | 公开(公告)日: | 2004-09-08 |
发明(设计)人: | 伯纳德·阿斯巴;休伯特·莫里索;马克·祖斯;奥利维耶·雷萨克 | 申请(专利权)人: | 原子能委员会 |
主分类号: | H01L21/18 | 分类号: | H01L21/18;H01L21/78;H01L21/58;H01L21/762;H01L33/00;H01L21/3063;H01L21/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 郭思宇 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一个薄层的准备,包括一个其中在用来产生所述薄层的一个层与一个基片之间产生一个界面的步骤,其特征在于,以这样一种方式形成所述界面,从而它带有一个具有一个第一机械强度级的至少一个第一区(Z1)、和具有显著低于第一区的一个机械强度级的一个第二区(Z2)。通过粘合以不同方式准备的表面、通过在所述区中以不同方式埋入和脆化一个层、或通过一个中间多孔层能产生所述界面。 | ||
搜索关键词: | 拆除 结构 及其 生产 方法 | ||
【主权项】:
1.一种准备一个薄层的方法,包括生产在打算形成所述薄层的部分的一个层与一个基片之间的界面的步骤,其特征在于,生产所述界面从而带有至少一个具有一个第一机械强度级的第一区域(Z1、Z1′)、和具有显著大于第一机械强度级的一个第二机械强度级的一个第二区域(Z2、Z2′),第一区域包括在第二区域中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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