[发明专利]用于深紫外光刻术的光刻胶组合物无效
| 申请号： | 02809702.5 | 申请日： | 2002-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1524201A | 公开（公告）日： | 2004-08-25 |
| 发明（设计）人： | R·R·达默尔;R·萨卡穆里 | 申请（专利权）人： | 科莱恩金融(BVI)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 英属维尔京*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本发明涉及在深紫外区域敏感的新颖光刻胶组合物和加工光刻胶组合物的方法，其中光刻胶包括新颖的共聚物，光活性组分和溶剂。新颖的聚合物包括衍生自烯属不饱和化合物的单元和衍生自不饱和环状非芳族化合物的单元，该烯属不饱和化合物包含至少一个氰基官能度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 深紫 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包括共聚物，光活性组分，和溶剂，其中共聚物包括至少一个结构1的烯属单元，该烯属单元包含至少一个氰基官能度，和至少一个结构2的环状单元，其中结构1是![]()
其中R1-R4独立地是氢、烷基、O-烷基、烷基酯、全氟烷基酯、羧酸、烷基羰基、羧酸酯、氰基(CN)、氟烷基、酸或碱不稳定基团、烷基磺酰基、磺酸酯、磺酰胺、烷基磺酰胺，条件是R1-R4至少一个包含氰基官能度，和其中结构2是![]()
其中R5-R14独立地是氢、(C1-C6)烷基、卤素、羧酸、(C1-C10)烷基OCO烷基、氰基(CN)、(C1-C10)仲或叔羧酸酯、取代频哪醇，R7和R8可以连接以形成环状非芳族结构、氟烷基、W(CF3)2OH，其中W是(C1-C6)烷基或(C1-C6)烷基醚、或酸或碱不稳定基团，R15和R16是氢或(C1-C4)烷基，和m是0-3。
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