[发明专利]附有金属背层的荧光面的形成方法及图像显示装置无效
| 申请号： | 02809750.5 | 申请日： | 2002-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN1507645A | 公开（公告）日： | 2004-06-23 |
| 发明（设计）人： | 伊藤武夫;西村孝司;小柳津刚;田中肇 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | H01J9/22 | 分类号： | H01J9/22;H01J29/28;H01J31/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 包于俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的附有金属背层的荧光面的形成方法，包括荧光面上形成的金属膜的规定区域上使用可将该金属膜溶解或氧化的溶液将其溶解/去除或形成高电阻的工序。金属膜的一部份被除去或形成高电阻后，其残留端部上还可覆盖绝缘性或高电阻的无机材料。甚至，可在溶解或氧化液中添加绝缘性或高电阻的无机材料，在进行金属膜的溶解/去除或形成高电阻处理的同时，让无机材料覆盖处理端部。如此，可获得能够防止因放电导致电子发射元件或荧光面受到破坏、劣化的附有金属背层的荧光面。 | ||
| 搜索关键词： | 附有 金属 荧光 形成 方法 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种附有金属背层的荧光面的形成方法，其特征在于，包括在面板内表面形成光吸收层和荧光层并呈规定图形排列的荧光面的工序，在所述荧光面上形成金属膜的工序，以及使用溶解或氧化所述金属膜的溶液将所述金属膜的规定区域去除或形成高电阻的工序。
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