[发明专利]含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物有效
| 申请号： | 02809987.7 | 申请日： | 2002-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN1529834A | 公开（公告）日： | 2004-09-15 |
| 发明（设计）人： | R·V·普什卡拉;M·C·劳森;W·李 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/32;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 龙传红 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过使用含有成像聚合物的光刻胶组合物得到的酸催化的正性光刻胶组合物，其可用193nm辐射和/或其它辐射成像并可显影形成具有改进的显影特性和改进的耐蚀刻性的光刻胶结构，该成像聚合物含有具有侧基的单体，该侧基含有多个酸不稳定部分。优选的包含多个酸不稳定部分的侧基的特征在于具有大体积端基。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 含多个酸 不稳定 部分 基团 聚合物 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶组合物，包含(a)成像聚合物、和(b)对辐射敏感的酸生成剂，所述成像聚合物包含具有自单体聚合部分侧面伸出的基团的单体单元，该侧基(PALM基团)含有多个酸不稳定部分。
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