[发明专利]通过施加电场在光固化组合物中加工纳米级图形的方法和系统无效
| 申请号： | 02810019.0 | 申请日： | 2002-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1729428A | 公开（公告）日： | 2006-02-01 |
| 发明（设计）人： | C·G·威尔森;S·V·斯里尼维圣;R·T·博纳卡兹 | 申请（专利权）人： | 德克萨斯州大学系统董事会 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种高生产能力的光刻过程，通过使用仔细控制的电场再令可聚合组合物固化，在可聚合的组合物中产生高分辨率的图形。该过程采用包含有所要图形的模板。令该模板精密地近接基底上的可聚合组合物。在模板——基底的界面上施加外电场同时保持模板与基底之间存在均匀的仔细控制的间隙。这使得可聚合的组合物被吸引到模板的凸出部分。通过适当地选择过程参数，如可聚合组合物的粘度，电场的大小和模板与基底之间的距离，在该液体中形成的结构的分辨率可被控制成与模板结构的分辨率一致。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 施加 电场 光固化 组合 加工 纳米 图形 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.在基底上形成图形结构的方法，它包括：将可聚合组合物涂覆在该基底的表面上；将模板定位于近接该可聚合组合物，其中模板的至少一部分是导电的；以及在模板与基底之间施加电场，其中施加的电场产生静电力，把一部分的可聚合组合物往模板吸引。
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