[发明专利]金属超薄膜、金属超薄膜叠层体以及金属超薄膜和金属超薄膜叠层体的制备方法无效
| 申请号： | 02810106.5 | 申请日： | 2002-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1511199A | 公开（公告）日： | 2004-07-07 |
| 发明（设计）人： | 村田好正 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社;村田好正 |
| 主分类号： | C30B29/02 | 分类号： | C30B29/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 钟守期;庞立志 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及金属超薄膜、金属超薄膜的叠层体以及金属超薄膜和金属超薄膜叠层体的制备方法。本发明中的金属超薄膜或金属超薄膜的叠层体是，在导电性基材上形成电介体薄膜，该电介体薄膜的膜厚为通过该电介体薄膜显著产生金属间的隧道效应的膜厚或者构成导电性基材和金属超薄膜的金属的价电子、空穴因多体效应而受到影响的膜厚、例如该电介体的带隙变窄的膜厚，在该电介体之上通过沉积法以单原子或单分子厚度形成金属超薄膜，由此而得到。使用本发明，不会产生簇，而可以得到金属超薄膜或叠层其的膜，可应用于延长催化剂的寿命和提高集成电路的集成程度等。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 薄膜 叠层体 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.金属超薄膜，其特征在于，该金属超薄膜是在显示金属传导的导电性基材表面通过电介体薄膜形成的。
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