[发明专利]基片层切割设备及相关方法有效

专利信息
申请号: 02810216.9 申请日: 2002-04-10
公开(公告)号: CN1582221A 公开(公告)日: 2005-02-16
发明(设计)人: 米里埃尔·马蒂内;蒂埃里·巴尔热;阿兰·苏比;克里斯特勒·拉加赫-布朗夏尔;奥利维耶·雷萨克;塞西尔·贝尔内 申请(专利权)人: 硅绝缘技术公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;H01L21/00;B32B35/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 刘兴鹏
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及一种用于自动高精度切割一种材料层的设备(50),该材料层通过脆化区域而结合在源基片上,该源基片和被切割材料层形成被切割工件,所述设备包括切割装置(531,532)和用于保持被切割工件的位置的装置(510),其特征在于,所述切割装置包括一个刀片,其用于作用在被切割工件上。本发明还涉及用于使用该设备的方法。
搜索关键词: 基片层 切割 设备 相关 方法
【主权项】:
1.一种用于自动高精度切割材料层(201)的设备(10,50),所述材料层通过脆化区域(202)而结合在源基片上,所述源基片和被切割材料层形成被切割工件,所述设备包括切割装置(130,530,531,532)和用于保持被切割工件的位置的装置(110,510),其特征在于,所述切割装置包括用于切入被切割工件中的刀片。
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