[发明专利]芯片电阻器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 02810238.X 申请日: 2002-11-28
公开(公告)号: CN1524275A 公开(公告)日: 2004-08-25
发明(设计)人: 土井真人 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01C7/00 分类号: H01C7/00;H01C17/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在芯片型绝缘基板(11)的上面形成有电阻膜(12)及该电阻膜两端的上面电极(13),并且形成有覆盖上述电阻膜的外涂层(14),进一步,在上述两个上面电极(13)的上面,相对于上述外涂层(14)部分重叠地形成辅助上面电极(15),另外,在上述绝缘基板(11)的左右端面(11a)上形成有侧面电极(16),在上述辅助上面电极(15)及侧面电极(16)的表面形成有金属镀层(18),如此构成芯片电阻器,通过相对于上述辅助上面电极(15)中的重叠在上述外涂层(14)上的部分、部分重叠地形成覆盖上述外涂层的最上层的外涂层(19),而能防止在上述上面电极(13)及辅助上面电极(15)发生含硫气体的迁移等。
搜索关键词: 芯片 电阻器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种芯片电阻器,在形成为芯片型的绝缘基板的上面,形成有至少一个电阻膜、位于该电阻膜两端的左右一对上面电极民、以及覆盖上述电阻膜的外涂层,并且,在上述两上面电极的上面,相对于上述外涂层部分重叠地形成辅助上面电极,而在上述绝缘基板的左右端面上,与上述上面电极及辅助上面电极电性导通地形成侧面电极,而且,在上述辅助上面电极及侧面电极的表面形成有金属镀层,其特征在于:在上述外涂层的上面,相对于上述辅助上面电极中重叠在上述外涂层上的部分、部分重叠地形成有最上层的外涂层。
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