[发明专利]高压介质磨无效
| 申请号： | 02810582.6 | 申请日： | 2002-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1533304A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | W·N·福特;E·H·J·C·弋姆埃伦;Q·Q·赵 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | B02C17/16 | 分类号： | B02C17/16;B02C17/18;B02C17/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周慧敏;马崇德 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高压介质磨(HPMM)及其使用方法：(a)向高压介质磨中加入研磨介质和待磨物料；(b)抽空该磨以产生真空；(c)向所述磨中加入超临界流体或挥发性气体；(d)在所述磨中加压并保压；和(e)运行该磨使得产品颗粒尺寸减小。 | ||
| 搜索关键词： | 高压 介质 | ||
【主权项】：
1.一种研磨方法，包括以下步骤：(a)向高压介质磨中加入研磨介质和待磨物料；(b)抽空磨以产生真空；(c)向所述磨中加入超临界流体或挥发性气体；(d)在所述磨中加压并保压；和(e)运行该磨使得产品颗粒尺寸减小。
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