[发明专利]光敏性树脂组合物及用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂、光敏性射线遮挡膜无效
| 申请号： | 02811001.3 | 申请日： | 2002-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN1522387A | 公开（公告）日： | 2004-08-18 |
| 发明（设计）人： | 冈田好史;高河原薰 | 申请（专利权）人： | 钟渊化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/037 | 分类号： | G03F7/037;G03F7/004;C08F2/50;C08G73/10;C08F20/20;C08F283/04;C08F290/14;C08F299/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光敏性树脂组合物和使用该组合物的光敏性干膜抗蚀剂，还提供显示优异阻燃性的光敏性干膜抗蚀剂。更详细的说，通过使用以可溶性聚酰亚胺、具有碳－碳双键的化合物、以及光反应引发剂及/或增敏剂作为主成分的光敏性树脂组合物，则可提供作业性好、可用碱溶液显影、还满足塑料材料阻燃性试验标准UL94V－0的光敏性干膜抗蚀剂，和光敏性射线遮挡膜，并由于不通过粘结剂可直接层叠且耐热性好，所以，特别适用于电子材料领域的印刷基板，或硬盘用吊架、电脑硬盘装置磁头部分的光敏性射线遮挡膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 树脂 组合 性干膜抗蚀剂 射线 遮挡 | ||
【主权项】：
1.一种光敏性树脂组合物，该组合物以可溶性聚酰亚胺、具有碳-碳双键的化合物、以及光反应引发剂及/或增敏剂作为必要成分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钟渊化学工业株式会社，未经钟渊化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/02811001.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
