[发明专利]采用氟硅烷处理的反射片无效

专利信息
申请号: 02811147.8 申请日: 2002-04-30
公开(公告)号: CN1537243A 公开(公告)日: 2004-10-13
发明(设计)人: 福尔克·厄尔布;多罗泰·B·洛森 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B5/128 分类号: G02B5/128
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 丁业平;王维玉
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供包括反射元件和包括在反射片主要表面处部分暴露的微球的反射片。反射片进一步由氟化硅烷化合物处理,该氟化硅烷化合物含有氟化基团和含有一个或多个可水解基团的硅烷基团。本发明也涉及制备反射片的方法,该方法包括采用氟化硅烷化合物处理反射片。
搜索关键词: 采用 硅烷 处理 反射
【主权项】:
1.一种包括反射元件并包括在反射片主要表面处部分暴露的微球的反射片,该反射片在该主要表面由氟化硅烷化合物处理,该氟化硅烷化合物含有氟化基团和含有一个或多个可水解基团的硅烷基团。
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