[发明专利]由凹糟波动方法制作的具有可控发散的反光镜有效
| 申请号： | 02811691.7 | 申请日： | 2002-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN1514769A | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 丹尼斯·I·库津;西德尼·A·希南 | 申请（专利权）人： | 艾弗里·丹尼森公司 |
| 主分类号： | B29D11/00 | 分类号： | B29D11/00;G02B5/124 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王彦斌 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种立方体角单元的刻划，它包括相交刻划的V形凹槽，其特征在于，至少一条V形凹槽(g)是这样制作的，即刻划期间，在基本被刻划时，基片和切割工具相互相对地振动。用此方法进行的刻划能设计成产生具有更宽发散的立方体角单元。 | ||
| 搜索关键词： | 波动 方法 制作 具有 可控 发散 反光镜 | ||
【主权项】：
1.一种应用切割工具通过向基片表面内刻划若干V形凹槽，在基片表面上制作立方体角单元图形的方法，所述基片表面位于正交X-Y-Z参考系统的X-Y平面内，其中，在刻划至少一条所述V形凹槽期间，切割工具和基片表面相互相对地振动。
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