[发明专利]确定与复制导电材料中的结构的方法与电极有效
申请号: | 02811926.6 | 申请日: | 2002-06-17 |
公开(公告)号: | CN1555428A | 公开(公告)日: | 2004-12-15 |
发明(设计)人: | P·莫勒;M·弗雷登贝里;P·维文-尼尔松 | 申请(专利权)人: | 里普里索拉斯技术股份有限公司 |
主分类号: | C25D5/02 | 分类号: | C25D5/02;C25F3/02;//B81C1/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 钟守期;马崇德 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于生产涉及微和超微结构的敷用物的电化学图案复制方法,ECPR,和导电极构造。用导电极,主电极(8)确定的蚀刻或电镀图案复制在导电材料,基材(9)上。主电极(8)与基材(9)紧密接触,并且使用接触蚀刻/电镀方法将蚀刻或电镀图案直接转移到基材(9)上。该接触蚀刻/电镀方法在主电极(8)与基材(9)之间闭合或开口的空穴里形成的局部蚀刻/电镀池(12,14)中进行。 | ||
搜索关键词: | 确定 复制 导电 材料 中的 结构 方法 电极 | ||
【主权项】:
1、一种用于生产涉及微和超微结构的敷用物的电化学图案复制方法,ECPR,其中用导电极,在导电材料上的主电极(8)和基材(9)复制、确定蚀刻或电镀的图案,其特征在于主电极(8)与基材(9)紧密接触,还在于在局部蚀刻/电镀池(12,14)中采用接触蚀刻/电镀方法直接将蚀刻/电镀图案转移到基材(9)上,所述池是在主电极(8)与基材(9)之间由开口的或闭合的空穴构成的。
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