[发明专利]优良的碱蚀刻加工性及冲压加工性的聚酰亚胺膜有效
| 申请号： | 02812205.4 | 申请日： | 2002-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN1516718A | 公开（公告）日： | 2004-07-28 |
| 发明（设计）人： | 小野和宏;藤原宽;赤堀廉一 | 申请（专利权）人： | 钟渊化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;//C08L79:08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的聚酰亚胺膜，其满足抗撕裂传播性偏差CH在1.0g以下的条件(1)，及/或浸渍在碱溶液中之后的溶胀系数CR在20.0以下的条件(2)。通过满足这些条件，可以提高聚酰亚胺膜的加工性，在蚀刻时或冲压加工时，可有效防止加工不良的发生，提高各工序的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 优良 蚀刻 加工 冲压 聚酰亚胺 | ||
【主权项】：
1.一种聚酰亚胺膜，其抗撕裂传播性偏差在1.0g以下。
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