[发明专利]抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及一种相应于以电子射线等为代表的超微细加工技术，具有高分辨性、高灵敏度、良好形状且对于在高真空下的能量照射，不产生气体逸出的实用的抗蚀剂组合物。即，提供(1)一种抗蚀剂组合物，其含有至少1种具有上述通式[1]、[2]和[3]所示的结构单元的聚合物、至少1种如上述通式[4]表示的放射线照射产生酸的化合物、以及有机碱性化合物和溶剂。(2)所述(1)的抗蚀剂组合物还包含具有上述通式[13]表示的聚合物单元的聚合物和(3)所述(1)和(2)的抗蚀剂组合物还包含上述通式[12]表示的通过放射线照射产生酸的化合物。

主权项

1.一种抗蚀剂组合物，其含有至少1种具有下述通式[1]、[2]和[3]所示的结构单元的聚合物、至少1种如下述通式[4]表示的放射线照射产生酸的化合物、以及有机碱性化合物和溶剂：所述通式[1]为：式1中，R₁表示氢原子或者甲基，所述通式[2]为：式2中，R₁与上述相同，R₂表示氢原子或者具有1～4个碳原子的直链状或者支链状烷基，所述通式[3]为：式3中，R₁与上述相同，R₃表示在酸作用下易于脱离且可以和酸成酯键的酸不稳定基团，所述通式[4]为：式4中，R₅和R₇分别独立地表示氢原子或者吸电子基团，但排除R₅和R₇同时是氢原子的情况，R₄、R₆和R₈分别独立地表示氢原子或者卤原子，R₉和R₁₀分别独立地表示氢原子、卤原子、具有1～4个碳原子的直链状或者支链状烷基、具有1～4个碳原子的直链状或者支链状烷氧基、具有2～5个碳原子的直链状或者支链状的烷氧羰氧基或者具有4～5个碳原子的环状缩醛基，n表示1～3的整数。