[发明专利]以有机硅化合物为基础的可硫化材料有效
申请号: | 02813368.4 | 申请日: | 2002-08-14 |
公开(公告)号: | CN1522283A | 公开(公告)日: | 2004-08-18 |
发明(设计)人: | 沃尔夫冈·齐凯;乌韦·沙姆 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学有限公司 |
主分类号: | C08L83/04 | 分类号: | C08L83/04;C08K5/58;C08K5/5455 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种具有至少两个可水解基团的以有机硅化合物为基础的可硫化材料,其特征在于含有至少一种含有下式单元的有机锡化合物(C)及含碱性氮的化合物(D)作为催化剂:RaR1b(XR3)CSnX(4-a-b-c)/2 (I)本发明还涉及一种通过上述材料的硫化所制备的模制品。 | ||
搜索关键词: | 有机硅 化合物 基础 硫化 材料 | ||
【主权项】:
1.一种具有至少两个可水解基团的以有机硅化合物为基础的可硫化材料,其特征在于包含至少一种含有下式单元的有机锡化合物(C)及含有碱性氮的化合物(D)作为催化剂:RaR1b(XR3)cSnX(4-a-b-c)/2 (I)式中,R是相同的或不同的,且是单价的任选经取代的可由氧原子间隔的烃基,X是相同的或不同的,且是-O-或-S-,R1是相同的或不同的,且具有-OS(=O)2R2的意义,R2是相同的或不同的,且是经由氮键结的胺基、单价的任选经取代的可由-S(=O)2-间隔的烃基、或-OR4基,其中R4的定义与R3相同,R3是相同的或不同的,且是氢原子或单价的任选经取代的可由氧原子间隔的烃基,a是0、1、2或3,b是0、1、2或3,c是0、1、2或3,条件是a+b+c的和≤4且该有机锡化合物具有至少一个R1基。
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