[发明专利]透明基板的制造方法及透明基板、以及具有此透明基板的有机场致发光元件无效
| 申请号： | 02813704.3 | 申请日： | 2002-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN1525946A | 公开（公告）日： | 2004-09-01 |
| 发明（设计）人： | 清田正悟;和田俊司;加藤之启;衣笠直己 | 申请（专利权）人： | 日本板硝子株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/02 | 分类号： | C03C15/02;C03C17/34;C03C23/00;H05B33/02;H05B33/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 有机EL元件10由带ITO膜的基板4(所述带ITO膜的基板4由玻璃基板1、成膜在所述玻璃基板1的表面用于碱钝化的SiO2膜2、及成膜在SiO2膜2表面的ITO膜3构成)、成膜在ITO膜3的表面用于高效地将空穴注入发光层6的空穴传递层5、成膜在空穴传递层5的表面用于将电子注入发光层6的金属薄膜层7、利用被注入的空穴与电子的再结合而发光的发光层6构成。将玻璃基板1的表面平滑性控制在0nm≤Rz≤4nm的范围内。由此，能够不产生非发光点，并使耐久性提高。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 制造 方法 以及 具有 机场 发光 元件 | ||
【主权项】：
1、一种透明基板的制造方法，是在表面上形成透明导电膜的透明基板的制造方法，其特征在于，将所述透明基板表面的表面平滑性控制在0nm≤Rz≤4nm的范围内。
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