[发明专利]用作选择性细菌DHFR抑制剂的新的杂环化合物及其应用

摘要

本发明涉及新的杂环化合物及其在预防和/或治疗细菌感染中的应用，以及其作为防腐剂、灭菌剂或消毒剂的应用。

主权项

1.下式所示化合物：或或其中A是N、CH或CR¹⁵；R¹⁴是-(CH₂)_n-X-Y，其中n是1、2、3、4、5或6；X是O、NH或NR¹⁵；且Y是芳基或杂芳基，其中每个Y可任选被1-4个独立的R¹⁶取代；每个R¹⁵独立地为低级烷基；每个R¹⁶独立地为卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、C(O)R¹⁵、S(O)₂NR¹⁷R¹⁷、S(O)₂R¹⁷、C(O)OR¹⁸、C(O)NH₂或C(O)NR¹⁹R²⁰；每个R¹⁷独立地为氢、烷基、氨基烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基或杂芳基可任选被1-4个独立的下列基团取代：卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、C(O)R¹⁵、C(O)OR²¹、C(O)NR²¹R²¹、S(O)₂NR²¹R²¹或S(O)₂R²¹；每个R¹⁸独立地为氢、烷基、氨基烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基或杂芳基可任选被1-4个独立的下列基团取代：卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、C(O)R¹⁵、C(O)OR²¹、C(O)NR²¹R²¹、S(O)₂NR²¹R²¹或S(O)₂R²¹；每个R¹⁹独立地为氢、烷基、氨基烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基或杂芳基可任选被1-4个独立的下列基团取代：卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、C(O)R¹⁵、C(O)OR²¹、C(O)NR²¹R²¹、S(O)₂NR²¹R²¹或S(O)₂R²¹；每个R²⁰独立地为氢、烷基、氨基烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基或杂芳基可任选被1-4个独立的下列基团取代：卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基、杂芳基烷氧基、C(O)R¹⁵、C(O)OR²¹、C(O)NR²¹R²¹、S(O)₂NR²¹R²¹或S(O)₂R²¹；以及每个R²¹独立地为氢、烷基、氨基烷基、芳基、杂芳基、芳基烷基或杂芳基烷基，其中每个芳基或杂芳基可任选被1-4个独立的下列基团取代：卤素、氰基、烷基、三氟甲基、羟基烷基、亚烷基二氧基、芳基、杂芳基、芳基烷基、杂芳基烷基、硝基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、硫代烷氧基、三氟甲氧基、芳氧基、杂芳氧基、芳基烷氧基或杂芳基烷氧基。