[发明专利]形成图案的方法无效
申请号: | 02815318.9 | 申请日: | 2002-05-23 |
公开(公告)号: | CN1539028A | 公开(公告)日: | 2004-10-20 |
发明(设计)人: | G·P·W·费克斯特;D·R·约翰逊;W·N·达梅雷尔;S·G·阿普勒顿 | 申请(专利权)人: | 秦内蒂克有限公司 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周慧敏;段晓玲 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 一种制备基底材料的方法,该基底材料能在含有部分或全部涂上催化材料的基底材料表面上的预定区域引发催化反应,当涂布的基底材料具有催化反应环境时,它就能在基底的涂布区域引发催化反应,其中催化材料通过图形转移机构印刷在基底上。 | ||
搜索关键词: | 形成 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备基底材料的方法,该方法使得所述基底材料能在含有部分或全部涂布有催化材料的基底材料表面上的预定区域引发催化反应,当涂布后的基底材料引入到合适的催化反应环境中时,所述催化材料就能在基底的涂布区域引发催化反应,其中催化材料通过图形转移机构印刷在基底上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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