[发明专利]由介晶膜淀积材料的方法无效
申请号: | 02815380.4 | 申请日: | 2002-06-06 |
公开(公告)号: | CN1630735A | 公开(公告)日: | 2005-06-22 |
发明(设计)人: | J·P·B·瓦斯克斯;R·H·希尔 | 申请(专利权)人: | 西蒙弗雷泽大学 |
主分类号: | C23C18/14 | 分类号: | C23C18/14 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 沙捷 |
地址: | 加拿大大不列*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
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摘要: | 描述了一种无需光刻胶即可制备金属氧化物、金属或其它含金属化合物的图案化膜的方法。该方法包括涂覆金属络合物的薄膜层,导致形成了液晶膜。该膜可被光分解,产生的化学反应导致形成了金属或金属氧化物膜。所使用的金属络合物是光反应性的,并且存在适宜波长的光时会发生化学反应。反应的最终产物取决于反应发生的气氛。可在空气中制成氧化物膜。可通过仅将所选择的膜部分暴露于光而得到图案化的膜。通过在不同的气氛中将膜的不同部分暴光,可在相同的膜上淀积两种或多种材料的图案。 | ||
搜索关键词: | 介晶膜淀积 材料 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在基体上制造含金属材料的图案的方法,该方法包括:(a)将金属络合物的介晶膜涂覆于基体表面上;(b)在第一气氛中,将所述膜具有第一形状的第一区域膜暴露于来自第一源的电磁辐射,以使所述第一区域的所述金属络合物进行光化学反应,所述反应将所述第一区域的所述金属络合物转化为粘结于所述基体的第一含金属材料和一种或多种配体副产物,所述副产物的至少一部分可在所述光化学反应过程中被除去,其中所述图案包括所述第一形状;和非必要地(c)除去所述金属络合物的未反应部分以及光化学反应过程中未被除去的一种或多种配体副产物的剩余部分。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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