[发明专利]由介晶膜淀积材料的方法无效

专利信息
申请号: 02815380.4 申请日: 2002-06-06
公开(公告)号: CN1630735A 公开(公告)日: 2005-06-22
发明(设计)人: J·P·B·瓦斯克斯;R·H·希尔 申请(专利权)人: 西蒙弗雷泽大学
主分类号: C23C18/14 分类号: C23C18/14
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 沙捷
地址: 加拿大大不列*** 国省代码: 加拿大;CA
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 描述了一种无需光刻胶即可制备金属氧化物、金属或其它含金属化合物的图案化膜的方法。该方法包括涂覆金属络合物的薄膜层,导致形成了液晶膜。该膜可被光分解,产生的化学反应导致形成了金属或金属氧化物膜。所使用的金属络合物是光反应性的,并且存在适宜波长的光时会发生化学反应。反应的最终产物取决于反应发生的气氛。可在空气中制成氧化物膜。可通过仅将所选择的膜部分暴露于光而得到图案化的膜。通过在不同的气氛中将膜的不同部分暴光,可在相同的膜上淀积两种或多种材料的图案。
搜索关键词: 介晶膜淀积 材料 方法
【主权项】:
1.一种在基体上制造含金属材料的图案的方法,该方法包括:(a)将金属络合物的介晶膜涂覆于基体表面上;(b)在第一气氛中,将所述膜具有第一形状的第一区域膜暴露于来自第一源的电磁辐射,以使所述第一区域的所述金属络合物进行光化学反应,所述反应将所述第一区域的所述金属络合物转化为粘结于所述基体的第一含金属材料和一种或多种配体副产物,所述副产物的至少一部分可在所述光化学反应过程中被除去,其中所述图案包括所述第一形状;和非必要地(c)除去所述金属络合物的未反应部分以及光化学反应过程中未被除去的一种或多种配体副产物的剩余部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西蒙弗雷泽大学,未经西蒙弗雷泽大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02815380.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top