[发明专利]光谱测量方法和执行所述方法的装置(诸多变型)

摘要

本发明方法的特征在于系统通过把所述系统的图像投射到包含光电元件的周期系统上，使驻光波的干涉条纹以空间信号形式记录。从光电元件接收的电信号用周期系统中所述光电元件的位置关系进行记录，并进行分析。本发明光谱测量方法在包括以下光学共轭元件的干涉仪中实现：辐射光源、反射镜、一个或两个薄的部分透射光敏感层、具有光电管的周期系统、一个光谱分析仪和任意的一个分光器。本发明的光谱测量方法和实现所述方法的干涉仪能够在宽光谱范围内使波长测量的精度增加2－5倍。

主权项

1.一种基于利用散射或吸收驻光波的电场能量的薄的部分透射膜对驻光波的干涉条纹组记录的光谱测量方法；其特征在于上述膜的厚度不应超过λ/2。该膜以θ角位于光源和反射镜之间，θ角由等式sinθ＝λ/2d确定，其中θ是薄的部分透射膜和光波前之间的夹角，λ是波长，d是干涉条纹的周期，所述干涉条纹在驻光波的影响下在薄的部分透射膜中形成；通过把上述驻光波的干涉条纹组的图像投射到包含光电管的周期系统上，使上述具有周期d的驻光波干涉条纹组的记录以空间频率信号形式实现；从上述光电管接收的电信号用上述周期系统中这些光电管位置关系进行记录并进行分析。