[发明专利]可见光-响应光活性涂层,涂覆制品,及其制备方法无效

专利信息
申请号: 02815882.2 申请日: 2002-07-12
公开(公告)号: CN1541196A 公开(公告)日: 2004-10-27
发明(设计)人: C·B·格林比尔格;J·萨尼 申请(专利权)人: PPG工业俄亥俄公司
主分类号: C03C17/00 分类号: C03C17/00;C03C17/245;C03C17/25;C03C17/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蔡胜有
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种用于形成具有在电磁波谱可见区域中的光吸收带的光活性涂层。该方法包括,通过CVD涂覆设备将前体组合物沉积到熔融金属浴中的至少一部分浮法玻璃带上。前体组合物包括二氧化钛前体材料和至少一种选自铬(Cr),钒(V),锰(Mn),铜(Cu),铁(Fe),镁(Mg),钪(Sc),钇(Y),铌(Nb),钼(Mo),钌(Ru),钨(W),银(Ag),铅(Pb),镍(Ni),铼(Re),和其混合物的其它前体材料。
搜索关键词: 可见光 响应 活性 涂层 制品 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种形成涂层的方法,包括步骤:将前体组合物通过CVD涂覆设备沉积到至少一部分基材表面上,所述前体组合物包含:(a)金属氧化物前体材料;和(b)光吸收带改变前体材料。
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