[发明专利]用于制造溅射靶的方法无效
| 申请号： | 02815906.3 | 申请日： | 2002-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN1541283A | 公开（公告）日： | 2004-10-27 |
| 发明（设计）人： | 维尔莫特·德博谢尔;伊尔德·德尔吕;若昂·王德施特雷腾 | 申请（专利权）人： | 贝克特股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王宪模 |
| 地址： | 比利时茨*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造溅射靶的方法。所述方法包括步骤：－设置一溅射靶载体(12)；－将一中间层(14)敷设到所述靶载体上；－在所述中间层的上面敷设一个顶层(16)，所述顶层包括一种材料，该材料的熔点显著高于所述中间层的熔点；－对外覆有所述中间层和所述顶层的靶载体进行加热。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 溅射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造溅射靶的方法，所述方法包括步骤：-设置一溅射靶载体；-将一中间层敷设到所述靶载体上；-在所述中间层的上面敷设一个顶层，所述顶层包括熔点显著高于所述中间层熔点的材料；-对覆有所述中间层和所述顶层的靶载体进行加热。
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