[发明专利]光记录载体记录方法和设备无效
| 申请号： | 02816493.8 | 申请日： | 2002-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN1547736A | 公开（公告）日： | 2004-11-17 |
| 发明（设计）人： | G·R·兰格雷斯;B·蒂伊科 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/0045 | 分类号： | G11B7/0045;G11B7/125;G11B7/013 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘杰;陈景峻 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及光记录载体记录方法，该方法用于通过将辐射束(12)引导至光记录载体(20)的记录表面(21)上来形成凹区和凸区。对于每个将被记录的凹区，辐射束被设定到至少一个能够在写功率照射周期(31)内形成凹区的写功率电平(Pw)，并且对于凹区之间的每个凸区，辐射束被设定到至少一个在底功率照射周期(51)内不能形成凹区的底功率电平(P0)。为了在不增加整体抖动的条件下将附加LML通道的位嵌入主通道，根据本发明提出在用于形成LML凸区的LML凸区照射周期(55)内将底功率电平(P0)临时增加到LML凸区功率电平(P11)，该LML凸区功率电平(P11)接近于写功率电平(Pw)，以及在用于形成LML凹区的LML凹区照射周期(35)内将写功率电平(Pw)临时降低到LML凹区功率电平(Pp1)，该LML凹区功率电平(Pp1)接近于底功率电平(P0)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 载体 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过将辐射束(12)引导至光记录载体(20)的记录表面(21)上来形成凹区和凸区的光记录载体记录方法，对于每个将被记录的凹区，辐射束被设定到至少一个能够在写功率照射周期(31)内形成凹区的写功率电平(PW)，并且对于凹区之间的每个凸区，辐射束被设定到至少一个在底功率照射周期(51)内不能形成凹区的底功率电平(P0)，其特征在于，在用于形成LML凸区的LML凸区照射周期(55)内将底功率电平(P0)临时增加到LML凸区功率电平(P11)，该LML凸区功率电平(P11)接近于写功率电平(PW)，并且在用于形成LML凹区的LML凹区照射周期(35)内将写功率电平(PW)临时降低到LML凹区功率电平(Pp1)，该LML凹区功率电平(Pp1)接近于底功率电平(P0)。
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