[发明专利]利用侧壁工艺制造窄的写入磁头的极尖无效
| 申请号： | 02816995.6 | 申请日： | 2002-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1630897A | 公开（公告）日： | 2005-06-22 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·迪南;理查德·肖 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31;//G11B5/012 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王彦斌 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 磁头包括P2磁极尖，在该磁头中，P2磁极尖材料电镀在P2磁极尖光刻槽的侧壁上。为了进行这种电镀，在写入间隙层上沉积材料块，使得在P2磁极尖的位置上形成材料块的大体直的垂直侧壁。然后，在该侧壁上形成电镀接种层。用光刻技术形成P2磁极尖沟槽，使得侧壁(以及它的沉积接种层)露在P2磁极尖沟槽的里面，然后在接种层上，从沟槽里面的侧壁外面电镀磁极尖材料，形成P2磁极尖。该P2磁极尖的宽度因此由沉积在侧壁上的磁极尖材料的量决定。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 侧壁 工艺 制造 写入 磁头 | ||
【主权项】：
1.一种磁头，包括：基底；读出头，形成在上述基底上；P1磁极，形成在上述读出头上；写入间隙层，形成在上述P1磁极层上；P2磁极尖，形成在上述部分写入间隙层上，其中上述P2磁极尖包括由接种层材料构成的第一部分和由电镀材料构成的第二部分，其中上述P2磁极尖具有宽度W，该宽度部分由上述接种层材料部分的厚度和部分由上述电镀材料部分的厚度形成。
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