[发明专利]由光学钳的静态阵列实现流动粒子横向偏斜和分离的装置和方法无效
| 申请号： | 02817929.3 | 申请日： | 2002-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN1557115A | 公开（公告）日： | 2004-12-22 |
| 发明（设计）人： | 戴维·G·格瑞尔;帕梅拉·T·库达 | 申请（专利权）人： | 芝加哥大学 |
| 主分类号： | H05H3/04 | 分类号： | H05H3/04;G01N30/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种使用光学钳的静态阵列来横向偏斜和/或分离粒子流的方法和装置。在具有大于所关心粒子大小的格子常数的光学钳阵列中，由外力驱动通过阵列的粒子经受与捕获阵列的附加相互作用。通过改变捕获阵列相对于外力的角度，阵列内从捕获到捕获的粒子运动可以偏离于外力的方向，从而允许粒子的选择性偏斜和/或分离。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 静态 阵列 实现 流动 粒子 横向 偏斜 分离 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于粒子的受控偏斜的装置，包括：多个粒子的一个源；应用于多个粒子、来自一个源的外力；以及相对于来自源的力的方向以倾斜角度定向的光学钳阵列。
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