[发明专利]切趾平面波导光栅的方法无效
| 申请号： | 02817961.7 | 申请日： | 2002-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN1555503A | 公开（公告）日： | 2004-12-15 |
| 发明（设计）人： | L·埃尔达达 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝;杨九昌 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于在光敏性平面线性波导中制造切趾布喇格光栅的方法。在基片(2)的表面上设置光敏性平面线性波导(4)。带有图案的相位掩模(6)设置在波导与激光束(8)之间。波导通过相位掩模曝光于激光束，其中激光束以基本恒定的速度相对基片和相位掩模移动，或者基片和相位掩模以基本恒定的速度相对激光束移动。光束具有平滑改变的强度分布，在足以引起波导折射率改变，并在波导中附加与相位掩模图案相应的切趾布喇格光栅的条件下，以相对纵轴大于0且小于90(度)的角度执行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 波导 光栅 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在光敏性平面线性波导中形成切趾布喇格光栅的方法，包括：在基片表面上设置光敏性平面线性波导，该波导定义纵轴；将带有图案的相位掩模设置在该波导与激光束之间；该波导通过该相位掩模暴露于激光束，其中激光束以基本恒定的速度相对基片和相位掩模移动，或者基片和相位掩模以基本恒定的速度相对激光束移动，所述光束具有平滑改变的强度分布，并且在足以引起波导折射率改变，并在波导中附加与相位掩模图案相应的切趾布喇格光栅的条件下，以相对纵轴为大于0°且小于90°的角度进行所述曝光。
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