[发明专利]用于使物质无沾染地熔化的装置和方法无效
申请号: | 02818183.2 | 申请日: | 2002-09-12 |
公开(公告)号: | CN1555345A | 公开(公告)日: | 2004-12-15 |
发明(设计)人: | 迈克尔·莱斯特;厄恩斯特-沃尔特·舍费尔;利奥波德·艾西伯格;福尔克尔·奥姆斯特德 | 申请(专利权)人: | 肖特·格拉斯公司 |
主分类号: | C03B5/02 | 分类号: | C03B5/02;C03B1/02;C03B3/00;C03B5/18;C03B5/187;C03B5/193;C03B5/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张兆东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于无沾染地熔化高纯度的、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的装置和方法。为此按照本发明熔体在一坩埚或熔融渣壳坩埚内借助于高频辐射加热,并在熔化坩埚内混合或均化。最好在坩埚底面上设一气体喷嘴,从喷嘴中向熔体内逸出气泡,例如氧气气泡(所谓的氧气气泡)。由此可以在熔融渣壳坩埚内达到意想不到的多重用处。首先,例如从上方以固态形式落入熔体内的未熔化物质通过与熔体的液态成分的剧烈混和迅速熔化;其次,均衡熔体的温度分布;第三,达到不同玻璃成分的均匀分布或充分混和;第四,可以调整玻璃的氧化还原状态。 | ||
搜索关键词: | 用于 物质 沾染 熔化 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.用于熔化物质,特别是用于熔化高纯度、侵蚀性的和/或高熔点的玻璃或玻璃陶瓷的装置(1、101、201、301),包括一坩埚(10),一用于电磁辐射的发射装置(30),其中借助于这种辐射可以将能量输入到可装在坩埚(10)内的熔体(40)中,和一混合装置或均化装置(50、150、250、350、350’),此装置附设于坩埚(10)。
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