[发明专利]阻气性薄膜、阻气性涂覆剂及其制造方法无效
| 申请号： | 02818254.5 | 申请日： | 2002-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1617797A | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 乾洋治;望月直人;正田勋;石本龙二;梅川秀喜;本田博纪;木村庆裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山;三得为株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/30 | 分类号： | B32B27/30;C08J7/04;C09D129/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邰红;庞立志 |
| 地址： | 日本山口*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种阻气性薄膜，它是含有由热塑性树脂薄膜构成的基材层和由烷氧基硅烷的水解产物、层状硅酸盐和聚乙烯醇系树脂构成的气体阻透层的积层体，其特征在于，上述气体阻透层在采用光散射法测得的散射体的旋转半径(Rg)在2.4μm以下，且在该气体阻透层中存在的层状硅酸盐的层间存在烷氧基硅烷和/或其水解产物。该薄膜即使在超过90％RH的高湿度下也显示出优异的阻气性。 | ||
| 搜索关键词： | 气性 薄膜 涂覆剂 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种阻气性薄膜，它是通过由热塑性树脂薄膜构成的基材层和由烷氧基硅烷的水解产物、层状硅酸盐和聚乙烯醇系树脂构成的气体阻透层积层而成的积层体，其特征在于，上述气体阻透层的采用光散射法测定的散射体的旋转半径(Rg)在2.4μm以下，且在该气体阻透层中存在的层状硅酸盐的层间存在烷氧基硅烷和/或其水解产物。
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