[发明专利]用于形成耐磨的SiO2抗反射层的新型混杂型溶胶无效
| 申请号： | 02818342.8 | 申请日： | 2002-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1556774A | 公开（公告）日： | 2004-12-22 |
| 发明（设计）人： | W·格劳比特;M·柯萨维;A·戈姆博特;T·霍夫曼 | 申请（专利权）人： | 默克专利股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/146 | 分类号： | C01B33/146;C03C17/00;C09D183/02;C03C17/25 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 混杂型溶胶及其制备与用途，所述混杂型溶胶包括[SiOx(OH)y]n颗粒、水和溶剂，其中，在[SiOx(OH)y]n颗粒中，0＜y＜4且0＜x＜2，该颗粒由颗粒尺寸为4－15纳米的第一部分颗粒和平均颗粒尺寸为15－60纳米的第二部分颗粒的混合物组成；所述溶胶可通过使四烷氧基硅烷在水性、含溶剂的介质中水解缩聚获得，缩聚的同时加入平均颗粒尺寸为15－60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 耐磨 sio sub 反射层 新型 混杂 溶胶 | ||
【主权项】：
1.混杂型溶胶，其包括-[SiOx(OH)y]n颗粒，其中0＜y＜4且0＜x＜2，其由颗粒尺寸为4-15纳米的第一部分颗粒和平均颗粒尺寸为20-60纳米的第二部分颗粒的混合物组成，-水和溶剂，所述溶胶可由以下方法得到：使四烷氧基硅烷在水性、含溶剂的介质中水解缩聚，得到颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒，同时加入平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物溶胶。
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