[发明专利]稀土盐/氧化剂为基础的化学－机械抛光方法有效
| 申请号： | 02818538.2 | 申请日： | 2002-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1556840A | 公开（公告）日： | 2004-12-22 |
| 发明（设计）人： | 凯文·J·莫根伯格;弗拉斯塔·布鲁西克;艾萨克·K·彻里安 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 赵仁临;张平元 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种使用化学－机械抛光系统抛光具有金属层的基片的方法。化学－机械抛光系统包含研磨剂及/或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。 | ||
| 搜索关键词： | 稀土 氧化剂 基础 化学 机械抛光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光基片的方法，包括：(i)使包含至少一金属层的基片与化学-机械抛光系统接触，其中该化学-机械抛光系统包括：(a)研磨剂及/或抛光垫；(b)稀土盐；(c)比稀土盐更强的氧化剂；及(d)液态载体；以及(ii)研磨至少一部分基片的金属层以抛光金属层。
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