[发明专利]氢气纯化装置、构件和包括该装置、构建的燃料处理系统有效
申请号: | 02818765.2 | 申请日: | 2002-03-26 |
公开(公告)号: | CN1558789A | 公开(公告)日: | 2004-12-29 |
发明(设计)人: | 戴维·J·埃德伦;查尔斯·R·希尔;威廉·A·布拉格;托德·R·斯多德巴克尔 | 申请(专利权)人: | 益达科技有限责任公司 |
主分类号: | B01D53/22 | 分类号: | B01D53/22 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王宏伟 |
地址: | 美国俄勒*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一个氢气纯化装置(10)包括一个盖体(12),该盖体含有一个分离膜组件(20),其用来接收含有氢气的混合气流(24)以产生一含有纯氢气或至少实质纯的氢气的气流(34)。分离膜组件(20)至少包括一个透氢膜和/或氢气选择性薄膜(46),在一些实施例中,其包括至少一个薄膜封套,该薄膜封套有一对一般相对着的薄膜区以界定一延伸于其间的收获导管,且这对薄膜区由一个支撑体隔离。盖体(12)包括的构件由热膨胀系数与薄膜(46)热膨胀系数相似或相同的材料制成。在一些实施例中,这些构件包括至少支撑体的一部分,在一些实施例中,这些构件包括至少盖体的一部分(12)。 | ||
搜索关键词: | 氢气 纯化 装置 构件 包括 构建 燃料 处理 系统 | ||
【主权项】:
1.一个燃料处理器,包括:一个氢气产生区,用于接受原料流并从原料流中产生含有氢气和其它气体的混合气流;一个分离区,用于接受至少一部分混合气流并由此产生含有至少实质部分为氢气的富氢气流,其中分离区包括:一个界定内室的盖体,其中盖体包括至少一个用以将含有氢气的混合气流输送至盖体的输入口,至少一个用以将含有实质纯的氢气的穿透气流排出在盖体之外的输出口,至少一个用以将含有至少一实质部分其它气体的副产物流排出在盖体之外的副产物输出口,其中富氢气流包括至少一部分穿透气流;一个在分离室内的氢气选择性薄膜,其中氢气选择性薄膜有一个热膨胀系数,与混合气流接触的第一面,与第一面通常相对的穿透面,氢气选择性薄膜至少很大一部分由含有钯和铜的合金制成;其中穿透气流包括一部分通过氢气选择性薄膜至穿透面的混合气流,而且副产物流包括一部分不通过氢气选择性薄膜的混合气流;以及支撑盖体内氢气选择性薄膜的构造,其中支撑盖体内氢气选择性薄膜的构造包括一种薄膜接触结构,其至少部分由一种包括镍和铜的合金制成,其热膨胀系数与氢气选择性薄膜的热膨胀系数相同或者至少是氢气选择性薄膜热膨胀系数的至少大约10%之内。
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