[发明专利]制造阴极射线管基质的方法无效
申请号: | 02818791.1 | 申请日: | 2002-09-16 |
公开(公告)号: | CN1559076A | 公开(公告)日: | 2004-12-29 |
发明(设计)人: | 塞缪尔·珀尔曼;罗伯特·E·克雷德;小理查德·莱普拉塔 | 申请(专利权)人: | 汤姆森特许公司 |
主分类号: | H01J9/227 | 分类号: | H01J9/227 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 吕晓章;马莹 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明提供了一种在阴极射线管(CRT)的面板(12)的内表面上制造荧光屏组件的方法,所述荧光屏组件具有光吸收基质(23),该光吸收基质具有多个大致相同尺寸的开口。所述管具有与面板的内表面相分隔的彩色选择电极(25),其中彩色选择电极具有多个与缝隙(33)交错的绞合线。所述方法包括步骤:提供当曝光时其溶解性被改变的第一光阻层(56),从而较大剂量的光降低其溶解性。将第一光阻层施加到面板的内表面。第一光阻层曝光在来自光源的光中,所述光源相对于中央光源位置和关于中央光源位置的两个对称位置定位。所述曝光选择性地改变第一光阻层的照亮的区域的溶解性,以在其中产生具有较大溶解性的区域和较小溶解性的区域。较大溶解性的区域随后被去除以便暴露面板的内表面的区域,同时保留较小溶解性的区域。随后用光吸收材料涂敷面板的内表面和保留的区域。其后,去除第一光阻层的保留区域和其上的光吸收材料,暴露面板的多个部分和在面板的内表面上限定第一光吸收材料保护带。对于第二光阻层和第三光阻层重复这个光刻处理,以便分别定义第二光吸收材料保护带和第三光吸收材料保护带。但是,第二光阻层和第三光阻层的光源位置位于相对于中央光源位置的不对称位置处。 | ||
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【主权项】:
1.一种在CRT(10)的面板(12)的内表面上制造光吸收基质(23)的方法,所述光吸收基质(23)中具有多个大致相等尺寸的开口,所述CRT(10)具有与面板的内表面相分隔的彩色选择电极(25),并且彩色选择电极(25)具有多个缝隙(33),其特征在于步骤:(a)将在面板的内表面上形成的第一光阻层(56)曝光在穿过彩色选择电极的缝隙的光中,其中从包括两个外部位置和一个内部位置的三个光源位置产生紫外光,其中两个外部光源位置关于所述内部光源位置对称地定位,并且其中内部光源位置是中央光源位置;(b)去除第一光阻层的未曝光部分;(c)以光吸收材料来涂敷面板的内表面;(d)去除所述第一光阻层的保留部分,以在面板的内表面上形成第一光吸收材料保护带;(e)分别使用第二和第三光阻层(156,215)再重复两次步骤(a)-(d),以形成第二和第三光吸收材料保护带,其中关于第二和第三曝光步骤的每一个的三个光源位置相对于中央光源位置不对称地定位。
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