[发明专利]电子器件制作方法和用所述方法制成的电子器件无效
申请号: | 02819924.3 | 申请日: | 2002-10-08 |
公开(公告)号: | CN1564754A | 公开(公告)日: | 2005-01-12 |
发明(设计)人: | J·博斯曼;P·W·M·范德瓦特;R·A·J·格罗恩休斯 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;H01L21/68 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 苏娟 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种制作一电子器件(1)、特别是一半导体器件(1)的方法,该电子器件上有电连接区(2),用激光辐射(3)在该电子器件的一个表面上形成一诸如型号的标记(M)。在本发明方法中,该电子器件(1)的表面(4,7)之一(4)用一粘合层(6)粘在一薄片(5)上,然后通过该薄片(5)和粘合层(6)在该器件的表面(4)上形成标记(M)。这样,便于在大量器件(1)上形成标记(M)而省去不必要的步骤,形成标记的过程可容易地结合到器件的整个制作过程中。令人惊奇的是,我们发现,通过吸收辐射的双层(5,6)形成标记完全可行。器件(1)可连接在薄片(6)上而电连接区(2)不与粘合层发生接触。最好是,把大量器件(1)同时制作在连接在薄片(5)上的整体(10)中。形成标记(M)后把器件(1)互相分开。 | ||
搜索关键词: | 电子器件 制作方法 方法 制成 | ||
【主权项】:
1.一种制作电子器件(1)的方法,该电子器件上有电连接区(2),该电子器件(1)的一个表面上有用激光辐射(3)形成的标记(M),该器件(1)的该表面(4)的部分(M)暴露于激光辐射(3)导致了调整激光辐射(3)使得该被辐射部分(M)与表面(4)的其余部分在视觉上相对照而形成该标记(M),其特征在于:该电子器件(1)的一个表面(4)通过粘合层(6)连接在一薄片(5)上,然后通过该薄片(5)和粘合层(6)在该表面(4)上形成标记(M)。
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