[发明专利]电致发光元件的制造方法无效
申请号: | 02820114.0 | 申请日: | 2002-11-27 |
公开(公告)号: | CN1568638A | 公开(公告)日: | 2005-01-19 |
发明(设计)人: | 柏原充宏 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H05B33/14;H05B33/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供如下的利用光刻法的EL元件的制造方法,即,具有发光效率或读取效率高、制造工序简便、可以形成高精细度的图形之类的利用光刻法的优点,同时,可以防止形成了图形的发光部的端部和后来层叠的不同的发光层之间的混色,而且还防止象素变细。为了达成所述目的,本发明是通过在形成了电极层的基体上,使用光刻法多次对种类不同的发光层进行图形处理,而在所述基体上形成多种发光部的EL元件的制造方法,其特征是,具有:在所述基体上按照发光层及光刻胶层的顺序依次形成的工序、对所述光刻胶层按照使相当于规定的发光部的部分的光刻胶层残留的方式进行图形曝光后再显影的工序、通过对除去所述光刻胶层而显露出来的发光层进行除去来形成表面被光刻胶层覆盖的发光部的工序、在所述基体上按照覆盖所述发光部的方式形成光刻胶层的工序、按照所述发光部及其端部不显露出来的方式对所述光刻胶层进行图形曝光后再进行显影的工序。 | ||
搜索关键词: | 电致发光 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电致发光元件的制造方法,是通过在形成了电极层的基体上,使用光刻法多次对种类不同的发光层进行图形处理,而在所述基体上形成多种发光部的EL元件的制造方法,其特征是,具有:在所述基体上按照发光层及光刻胶层的顺序依次形成的工序、对所述光刻胶层按照使相当于规定的发光部的部分的光刻胶层残留的方式进行图形曝光后再显影的工序、通过对除去所述光刻胶层而显露出来的发光层进行除去来形成表面被光刻胶层覆盖的发光部的工序、在所述基体上按照覆盖所述发光部的方式形成光刻胶层的工序、按照所述发光部及其端部不显露出来的方式对所述光刻胶层进行图形曝光后再进行显影的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本印刷株式会社,未经大日本印刷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02820114.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。