[发明专利]外用制剂有效
| 申请号： | 02820252.X | 申请日： | 2002-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1568173A | 公开（公告）日： | 2005-01-19 |
| 发明（设计）人： | 横幕敦司;伊藤武利;青野惠;渡边真一;西田勇一 | 申请（专利权）人： | 狮王株式会社 |
| 主分类号： | A61K7/06 | 分类号： | A61K7/06;A61K7/00;A61K7/48 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 唐伟杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种外用制剂，其包含由至少90wt％的(A)：一种或多种式(I)表示的没食子酸衍生物(其中R2、R3和R4中的两个独立地代表单糖、二糖或寡糖残基)和0.001wt％至小于10wt％的(B)：一种或多种式(I)表示的没食子酸衍生物(其中R2、R3和R4中的一个代表单糖、二糖或寡糖残基)组成的没食子酸衍生物，所述百分比以式(I)没食子酸衍生物的总含量为基数。在通式中，R1代表氢原子、碱金属、碱土金属、铵盐或者具有1－18个碳原子的烷基或链烯基；而R2、R3和R4独立地代表氢原子，羟基，C1－18烷氧基，聚氧乙烯基，聚氧丙烯基，或者单糖、二糖或寡糖的残基。 | ||
| 搜索关键词： | 外用 制剂 | ||
【主权项】：
1.一种外用制剂，其特征在于包含90wt％或更多的一种或多种其中式(I)中的R2、R3和R4中的两个独立地代表单糖、二糖或寡糖残基的没食子酸衍生物(A)和0.001wt％至小于10wt％的一种或多种其中R2、R3和R4中的一个代表单糖、二糖或寡糖残基的没食子酸衍生物(B)，所述没食子酸衍生物选自下式(I)![]()
其中R1代表氢原子、碱金属、碱土金属、铵盐或者具有1-18个碳原子的烷基或链烯基；而R2、R3和R4独立地代表氢原子，羟基，具有1-18个碳原子的烷氧基，聚氧乙烯基，聚氧丙烯基，或者单糖、二糖或寡糖的残基，所述含量各自以没食子酸衍生物的总含量为基数。
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