[发明专利]光扫描装置无效

专利信息
申请号: 02820454.9 申请日: 2002-10-16
公开(公告)号: CN1571994A 公开(公告)日: 2005-01-26
发明(设计)人: P·T·朱特;J·M·A·范登伊伦比德 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B7/00 分类号: G11B7/00;G02B7/04;G11B7/09
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘红;张志醒
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 用于扫描信息层(2)的一种光扫描装置(1)包括用于提供第一辐射束(14)的辐射源(6)、具有光轴(oo’)的一个透镜系统(7)以及检测系统(8),包括:(i)散光发生元件(9),用于产生利用矢量(Wo,1,θ1)代表的第一散光量(W1),以便将辐射束变换成第一散光辐射束(29);(ii)散光校正元件(27),用于产生利用矢量(Wo,2,θ2)代表的第二散光量(W2),以便将所述第一散光辐射束变换成利用矢量(Wo,3,θ3)代表的具有第三散光量(W3)的第二散光辐射束(30);以及(iii)检测器(28),用于将第二散光辐射束变换成电信号。按照本发明,使W3适合于检测器,并且Wo,2和θ2基本上符合以下公式:(Wo,1,2θ1)+(Wo,2,2θ2)=(Wo,3,2θ3)。
搜索关键词: 扫描 装置
【主权项】:
1.一种光扫描装置(1),用于扫描信息层(2),该装置包括:辐射源(6),用于提供第一辐射束(4);透镜系统(7),用于将所述第一辐射束变换成所述信息层的位置中的扫描光点(18),该透镜系统具有一个光轴(OO’);以及检测系统(8),包括:散光发生元件(9),用于产生第一散光量(W1),以便将所述第一辐射束变换成具有第一焦线(F1)和比所述第一焦线更加远离所述散光发生元件的第二焦线(F2)的第一散光辐射束(29),所述第一散光量(W1)在垂直于所述光轴的一个参考平面(XY)内利用矢量(W0,1,θ1)来表示,其中Wo,i代表Wi的大小,而θi代表所述第一焦线与垂直于所述光轴的一个参考轴(X)之间的角度;散光校正元件(27),用于产生第二散光量(W2),以便将所述第一散光辐射束变换成具有第三散光量(W3)的第二散光辐射束(30),所述第二散光量(W2)在所述参考平面内利用矢量(Wo,2,θ2)来表示,而所述第三散光量(W3)在所述参考平面内利用矢量(Wo,3,θ3)来表示;以及检测器(28),用于将所述第三辐射束变换成电信号,其特征在于,使W3适合于所述检测器,并且Wo,2和θ2基本上符合以下公式:(Wo,1,2θ1)+(Wo,2,2θ2)=(Wo,3,2θ3)。
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