[发明专利]流平剂和防缩孔剂有效
申请号: | 02820549.9 | 申请日: | 2002-10-08 |
公开(公告)号: | CN1571822A | 公开(公告)日: | 2005-01-26 |
发明(设计)人: | F·O·H·皮伦;E·M·罗恩;L·A·恩格尔布雷希特;A·诺丹 | 申请(专利权)人: | 埃弗卡添加剂股份有限公司 |
主分类号: | C09D7/06 | 分类号: | C09D7/06;C09D11/02;C08F222/18;C08F222/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 范赤;段晓玲 |
地址: | 荷兰尼*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 聚合物作为流平剂或者防缩孔剂的用途,所述聚合物包含至少一种由通式I表示的氟化单元:其中R1是由以下表示的部分:CnF2n+1-(CH2)m-、ACnF2n-(CH2)m-、CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5) p、CnF2n+1-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-X或CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-X-;其中A=H、Cl、Br、I、C1-12烷基或者-OC1-12烷基,其中4≤n≤20,0≤m≤4和0≤p≤20,其中X是间隔基部分,其选自酯、酰胺、磺基酰胺、巯基基团、聚氨酯基团和烷基基团,其中R2是H、金属部分、(烷基)铵部分或者烷基基团、CnF2n+1-(CH2)m-、ACnF2n-(CH2)m-、CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5) p、CnF2n+1-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-X或CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5) p-X-;其中A=H、Cl、Br、I、C1-12烷基或者-OC1-12烷基,其中4≤n≤20,0≤m≤4和0≤p≤20,其中X是间隔基部分,其选自酯、酰胺、磺基酰胺、巯基基团、聚氨酯基团和烷基基团,其中R3和R4独立地选自H、烷基-基团和苯基-基团,和其中R5可以是H或者甲基。 | ||
搜索关键词: | 流平剂 缩孔 | ||
【主权项】:
1.聚合物作为流平剂或者防缩孔剂的用途,所述聚合物包含至少一种由通式I表示的氟化单元:(通式I)其中R1是选自以下基团的部分:CnF2n+1-(CH2)m-、ACnF2n-(CH2)m-、CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5)p、CnF2n+1-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-X或CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-X-;其中A选自H、Cl、Br、I、C1-12烷基和OC1-12烷基,其中4≤n≤20,0≤m≤4和0≤p≤20,其中X是间隔基部分,其选自酯、酰胺、磺基酰胺、巯基基团、聚氨酯基团和烷基基团,其中R2选自H、金属部分、(烷基)铵部分、烷基基团、CnF2n+1-(CH2)m-、ACnF2n-(CH2)m-、CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5)p、CnF2n+1-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-X-、ACnF2n-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-X或CnF2n+1-(CH2)m-(OCH2CHR5)p-X-;其中A选自H、C1、Br、I、C1-12烷基和OC1-12烷基,其中4≤n≤20,0≤m≤4和0≤p≤20,其中X是间隔基部分,其选自酯、酰胺、磺基酰胺、巯基基团、聚氨酯基团和烷基基团,其中R3和R4独立地选自H、烷基-基团和苯基-基团,和其中R5选自H和甲基。
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