[发明专利]光触媒体、光触媒体的制造方法和光触媒体的制造装置有效

专利信息
申请号: 02821432.3 申请日: 2002-09-27
公开(公告)号: CN1578701A 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: 平冈纯治;道家隆博;原贺久人;野口大辅;川又由雄 申请(专利权)人: 芝浦机械电子装置股份有限公司
主分类号: B01J35/02 分类号: B01J35/02;B01J21/06;B01J37/02;C23C14/34;C01G23/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的光触媒体是具有由钛和氧的化合物组成的光触媒膜的光触媒体,上述光触媒膜呈多孔状,其表面的算术平均光洁度Ra与其厚度的比值大于等于0.02。而且,利用氧化钛的锐钛矿结构的X线衍射峰之间的强度比可以特定该光触媒体。这种多孔状光触媒体材料是采用反应性溅射,通过适当调节成膜速度、溅射压力、基板温度、氧分压等成膜参数而得到,具有良好的分解亲水特性。
搜索关键词: 触媒 制造 方法 装置
【主权项】:
1.一种光触媒体,具有由钛和氧的化合物组成的光触媒膜,其特征在于:上述光触媒膜呈多孔状,其表面的算术平均光洁度Ra与其厚度的比值大于等于0.02。
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