[发明专利]包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物无效
| 申请号： | 02821615.6 | 申请日： | 2002-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1623121A | 公开（公告）日： | 2005-06-01 |
| 发明（设计）人： | 工藤隆范;R·R·达莫尔;M·帕德曼纳班 | 申请（专利权）人： | 科莱恩金融(BVI)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘明海 |
| 地址： | 英属维尔京*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本发明涉及对深紫外中的辐射敏感的光刻胶组合物，特别是在100－200纳米(nm)范围中敏感的正性光刻胶组合物。光刻胶组合物包括a)不溶于碱性水溶液和包括至少一个酸不稳定基团的聚合物，和此外其中聚合物基本是非酚类的；b)在辐射时能够产生酸的化合物；和c)降低电子和离子对光刻胶图像影响的添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 添加剂 用于 uv 辐射 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于在200nm以下曝光和能够降低电子和离子对光刻胶劣化影响的光刻胶组合物，包括：a)不溶于碱性水溶液和包括至少一个酸不稳定基团的聚合物，和此外其中该聚合物基本是非芳族的；b)在辐射时能够产生酸的化合物；和c)选自多环芳族物质、醌、取代醌、交联剂和碘取代芳族化合物的添加剂。
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