[发明专利]位移探测装置和透镜筒有效
| 申请号： | 02821866.3 | 申请日： | 2002-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN1582386A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 冈崎光宏 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G01D5/245 | 分类号： | G01D5/245;G01B7/04;G02B7/04 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 车文;顾红霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种位移探测装置，探测设置成能够相对于固定件移位的活动件的位移，该位移探测装置包括：一标尺，设置作为具有活动件的单元；一位移探测部分，探测标尺的位移；一支撑件，将位移探测部分支撑在该位移探测部分能够在基本上垂直于接触平面的方向上移动的状态，其中在该接触平面处位移探测部分与标尺在位移探测部分与标尺的接触位置接触，并且在除基本上垂直于接触平面的方向以外的方向上的移动受到限制；和一施压件，对位移探测部分施加朝向标尺的压力。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 探测 装置 透镜 | ||
【主权项】：
1.一种位移探测装置，探测设置成能够相对于固定件移位的活动件的位移，该位移探测装置包括：一标尺，设置作为具有活动件的单元；一位移探测部分，探测标尺的位移；一支撑件，将位移探测部分支撑在该位移探测部分能够在基本上垂直于接触平面的方向上移动的状态，其中在该接触平面处位移探测部分与标尺在位移探测部分与标尺之间的接触位置接触，并且在除基本上垂直于接触平面的方向以外的方向上的移动受到限制；和一施压件，对位移探测部分施加朝向标尺的压力。
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