[发明专利]形成细微图案的方法有效
| 申请号： | 02821984.8 | 申请日： | 2002-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN1592871A | 公开（公告）日： | 2005-03-09 |
| 发明（设计）人： | 新堀博;菅田祥树;金子文武;立川俊和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成细微图案的方法，特征在于重复进行以下工序：在具有光刻胶图案的基板上涂敷用于图案细微化的涂膜形成剂的工序；利用热处理使所述涂膜形成剂收缩，利用该热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔的工序；和除去所述用于图案细微化的涂膜形成剂的工序。利用本发明，可以提供这样一种细微图案的形成方法，即在图案尺寸的控制性方面优良，可以用于形成具有良好外形和半导体器件所要求特性的细微图案，即使在使用具有膜厚为1.0μm左右以上的厚膜光刻胶图案的基板时，也可以得到具有良好外形的细微图案。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 细微 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、形成细微图案的方法，其特征在于重复进行数次以下工序：在具有光刻胶图案的基板上涂敷用于图案细微化的涂膜形成剂的工序；利用热处理使所述用于图案细微化的涂膜形成剂热收缩，利用该热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔的工序；和除去所述用于图案细微化的涂膜形成剂的工序。
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