[发明专利]含亚磺酸根基团的低聚物和聚合物及其生产方法有效
申请号: | 02822007.2 | 申请日: | 2002-09-02 |
公开(公告)号: | CN1582304A | 公开(公告)日: | 2005-02-16 |
发明(设计)人: | 托马斯·翰翎;J·凯瑞斯;W·张 | 申请(专利权)人: | 斯图加特大学化工研究所;托马斯·翰翎 |
主分类号: | C08F8/04 | 分类号: | C08F8/04;C08C19/02;C08G85/00;C08J5/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈长会 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及至少含亚磺酸根基团(P-(SO2)nX,X是1-(n=1)、2-(n=2)或3-(n=3)价金属阳离子或H+或铵离子NR4+,其中,R是烷基、芳基、H)的新型聚合物或低聚物,该聚合物或低聚物是用下述方法得到的:用悬浮液或溶液形式的合适还原剂将至少含SO2Y基团(Y=F、Cl、Br、I、OR、NR2(R=烷基和/或芳基和/或H)、N-咪唑基、N-吡唑基)的聚合物或低聚物完全或部分还原。进一步使得到的亚磺酸化聚合物反应,特别是用单、二或低聚功能性亲电子试剂将亚磺酸根基团烷基化,得到聚合物和聚合物(混合)膜。本发明还涉及亚磺酸化聚合物的生产方法和通过S烷基化进一步使亚磺酸化聚合物与亲电子试剂反应的方法。 | ||
搜索关键词: | 含亚磺 酸根 基团 低聚物 聚合物 及其 生产 方法 | ||
【主权项】:
1、在体积中或表面处至少含亚磺酸根基团(P-(SO2)nX,X是1-(n=1)、2-(n=2)或3-(n=3)价金属阳离子或H+或铵离子NR4+,其中,R是烷基、芳基、H)的聚合物或低聚物,其特征在于,该聚合物或低聚物是用下述方法得到的:用悬浮液或溶液形式的合适还原剂将含SO2Y基团(Y=F、Cl、Br、I、OR、NR2(R=烷基和/或芳基和/或H)、N-咪唑基、N-吡唑基)的聚合物或低聚物在其体积或表面上完全或部分还原。
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