[发明专利]存储器件无效

专利信息
申请号: 02822389.6 申请日: 2002-11-12
公开(公告)号: CN1586007A 公开(公告)日: 2005-02-23
发明(设计)人: 植村哲也 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 穆德骏;陆弋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种存储器件包括多个存储单元、第一MOSFET、电阻器件与第二MOSFET。多个存储单元以矩阵进行排列,并且多个存储单元的每个连接到字线与位线,并且具有存储电容。第一MOSFET在衬底上形成,并且第一MOSFET的源极区域连接到所述位线,其中的栅极连接到所述字线,并且其中的漏极区域连接到存储电容。第二MOSFET具有与所述衬底电隔离的沟道区域。第二MOSFET的源极区域通过电阻器件连接到第一电压,并且所述源极区域连接到第一MOSFET的漏极区域。第二MOSFET的栅极连接到第二电压,并且第二MOSFET的漏极区域连接到第三电压。
搜索关键词: 存储 器件
【主权项】:
1.一种存储器件,包括:以矩阵进行排列的多个存储单元,其中所述多个存储单元的每个连接到字线与位线,并且具有存储电容;在衬底上形成的第一MOSFET,其中所述第一MOSFET的源极区域连接到所述位线,其栅极连接到所述字线,并且其漏极区域连接到所述存储电容;电阻器件;第二MOSFET,其具有沟道区域,并且与所述衬底电隔离,其中所述第二MOSFET的源极区域通过所述电阻器件连接到第一电位,并且所述源极区域连接到所述第一MOSFET的所述漏极区域,所述第二MOSFET的栅极连接到第二电位,并且所述第二MOSFET的漏极区域连接到第三电位。
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