[发明专利]光学记录和再现介质、制造其的压模、以及光学记录和再现器件无效
| 申请号： | 02822706.9 | 申请日： | 2002-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN1585975A | 公开（公告）日： | 2005-02-23 |
| 发明（设计）人： | 远藤惣铭 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/005 | 分类号： | G11B7/005;G11B7/0045;G11B7/007;G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李德山 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学记录和再现介质、制造其的压模、以及光学记录和再现器件，在所述光学记录和再现介质中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中，在沿着记录轨道方向相邻的凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当凹坑深度为d1并且辅助凹坑深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及辅助凹坑沿着记录轨道方向的两个边缘部分形成为简单凸曲线。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 再现 介质 制造 以及 器件 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录和再现介质，其中，沿着记录轨道形成与记录信息相应的凹坑，其中在沿着所述记录轨道方向相邻的所述凹坑之间的至少一部分间隔中形成辅助凹坑；当所述凹坑的深度为d1并且所述辅助凹坑的深度为d2时，得到关系d1≥d2；以及所述辅助凹坑沿着所述记录轨道的两个边缘部分形成为简单凸曲线。
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