[发明专利]利用截面分析确定聚焦中心无效
| 申请号： | 02824134.7 | 申请日： | 2002-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1599886A | 公开（公告）日： | 2005-03-23 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·E·利陶;克里斯多佛·J·雷蒙德 | 申请（专利权）人： | 安格盛光电科技公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过对散射模型进行截面分析确定平版印刷设备和应用参数的方法，包括确定平版印刷设备和应用的聚焦中心。控制方法利用截面分析来实现平版印刷设备聚焦中心的过程控制。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 截面 分析 确定 聚焦 中心 | ||
【主权项】：
1.一种测量与平版印刷设备相关的方法，包括步骤：提供一个衬底，多个衍射结构利用平版印刷设备通过平版印刷工艺形成在所述衬底上，所述衍射结构包括多个间隔元件；利用辐射源工具测量至少多个衍射结构中的三个的衍射特征；选择理论衍射结构，提供与所测量的衍射结构的所测量的衍射特征相匹配的理论衍射特征；计算每个所选理论衍射结构的截面；以及确定所计算的截面间的度量以确定所述平版印刷设备的所需参数。
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