[发明专利]基板保持装置和抛光装置无效
| 申请号： | 02824391.9 | 申请日： | 2002-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1698185A | 公开（公告）日： | 2005-11-16 |
| 发明（设计）人： | 户川哲二;锅谷治;福岛诚;樱井邦彦;吉田博;市村照彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本涉及一种在研磨半导体晶片等基板后进行平坦化的抛光装置中保持该基板(W)并按压在研磨面上的基板保持装置。本发明的基板保持装置具备内部具有容纳空间的顶圈(topring)主体(2)、和可在顶圈主体的容纳空间内上下运动的上下运动部件(206)，在上下运动部件的下表面上装配具备弹性膜的相接部件(209)，相接部件的弹性膜(291)具备在具有向外凸出的外延凸缘(291a)的同时直接或间接相接于基板的相接部(291b)：和从相接部的外延凸缘基部(291d)向上延伸并连接于上下运动部件的连接部(291c)，连接部由比相接部更富伸缩性的材质形成。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 装置 抛光 | ||
【主权项】：
1、一种基板保持装置，保持作为抛光对象物的基板，并按压在研磨面上，其特征在于：具备内部具有容纳空间的顶圈主体、和可在该顶圈主体的容纳空间内上下运动的上下运动部件，在上述上下运动部件的下表面上装配具备弹性膜的相接部件，上述相接部件的弹性膜具备在具有向外凸出的外延凸缘，并直接或间接相接于上述基板的相接部；和从上述相接部的外延凸缘基部向上延伸并连接于上述上下运动部件的连接部，上述连接部由比相接部更具有伸缩性的材质形成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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